[发明专利]快闪记忆体单元及其制造方法与其阵列在审

专利信息
申请号: 202110703759.6 申请日: 2021-06-24
公开(公告)号: CN114695366A 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 林玉珠;任啟中;刘怡伶;江文智;廖耕颍;董怀仁 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/11519 分类号: H01L27/11519;H01L27/11521;H01L27/11565;H01L27/11568
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 揭示一种快闪记忆体元件及其制造方法与其阵列。快闪记忆体元件位于基材上,包含浮动栅极电极、位于基材与浮动栅极电极之间的穿隧介电层、长度较小的控制栅极电极、以及位于浮动栅极电极与长度较小的控制栅极之间的控制栅极介电层。长度较小的控制栅极的主轴的长度小于浮动栅极电极的主轴的长度。
搜索关键词: 记忆体 单元 及其 制造 方法 与其 阵列
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110703759.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top