[发明专利]集成电路装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110691772.4 申请日: 2021-06-22
公开(公告)号: CN113838862A 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 金成吉;姜景文;洪慧垠 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11565 分类号: H01L27/11565;H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11575;H01L27/11582
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 赵南;张青
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种集成电路装置,包括:外围电路结构,其布置在衬底上;栅极堆叠件,其布置在外围电路结构上,并且包括多个栅电极;以及坝结构,其形成在穿过栅极堆叠件的坝开口部分中。坝结构包括:绝缘间隔件,其位于坝开口部分的内壁处,并且包括位于坝开口部分的上侧处的一对倾斜侧壁;以及掩埋层,其填充坝开口部分的内部,并且包括空气空间。集成电路装置还包括:模制栅极堆叠件,其被坝结构围绕,并且包括多个模制层;多条导电线,其布置在栅极堆叠件上;以及多个贯通电极,其连接至多条导电线,穿过模制栅极堆叠件,并且被坝结构围绕。
搜索关键词: 集成电路 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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