[发明专利]阵列基板及显示装置制备方法有效

专利信息
申请号: 202110644626.6 申请日: 2021-06-09
公开(公告)号: CN113410272B 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 陈发祥;盖翠丽;马应海;郭子栋;张旭阳;李俊峰 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 娜拉
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及显示装置制备方法,阵列基板包括衬底和设置于衬底一侧的有源层,衬底具有指纹识别区和至少部分围绕指纹识别区设置的正常显示区,有源层包括多个有源单元,有源单元在衬底上呈阵列分布;还包括光阻断层,光阻断层设置于有源层朝向衬底的一侧且设于指纹识别区,光阻断层包括多个挡光单元,在垂直于阵列基板的方向上,挡光单元在衬底的正投影覆盖有源单元在衬底的正投影设置,且挡光单元的正投影覆盖至少一个有源单元的正投影。通过挡光单元来遮挡在阵列基板进行电路板邦定过程中照射至指纹识别区的外界光,避免位于指纹识别区的各个有源单元被强光源照射而导致其特性变化,提高显示装置的显示均一性。
搜索关键词: 阵列 显示装置 制备 方法
【主权项】:
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