[发明专利]阵列基板及显示装置制备方法

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底和设置于所述衬底一侧的有源层，所述衬底具有指纹识别区和至少部分围绕所述指纹识别区设置的正常显示区，所述有源层包括多个有源单元，所述有源单元在所述衬底上呈阵列分布；

还包括光阻断层，所述光阻断层设置于所述有源层朝向所述衬底的一侧且设于所述指纹识别区，所述光阻断层包括多个挡光单元，在垂直于所述阵列基板的方向上，所述挡光单元在所述衬底的正投影覆盖所述有源单元在所述衬底的正投影设置，且所述挡光单元的正投影覆盖至少一个所述有源单元的正投影;

还包括设于所述光阻断层和所述有源层之间的第一无机层，所述衬底包括第二无机层，沿所述阵列基板的膜层堆叠方向，所述第二无机层的厚度小于等于所述第一无机层的厚度。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一无机层包括氧化硅、氮化硅中的至少一者。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述衬底包括沿所述阵列基板的膜层堆叠方向层叠设置的第一衬底、所述第二无机层以及第二衬底，所述光阻断层和所述第一无机层层叠设于所述第二衬底背离所述第一衬底一侧。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，还包括设于所述第二衬底和所述光阻断层之间的第三无机层，沿所述阵列基板的膜层堆叠方向，所述第一无机层的厚度为100nm~500nm，所述第二无机层的厚度为100nm~1000nm，所述第三无机层的厚度为100nm~1000nm。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿所述阵列基板的膜层堆叠方向，所述光阻断层的厚度为10nm~100nm，所述光阻断层包括紫外光透过率小于等于1%的材料层。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述光阻断层为非晶硅。

7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括像素电路，所述像素电路包括由七个晶体管以及一个电容，各所述挡光单元在所述衬底上的正投影至少覆盖所述像素电路中一个所述晶体管的有源单元在所述衬底上的正投影。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，在垂直于所述阵列基板的方向上，一个所述挡光单元在所述衬底上的正投影仅覆盖一个所述有源单元在所述衬底上的正投影，或；

在垂直于所述阵列基板的方向上，一个所述挡光单元在所述衬底上的正投影至少覆盖两个所述晶体管的有源单元在所述衬底上的正投影。

9.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，各所述挡光单元在所述衬底上的正投影呈多边形、圆形、椭圆形及带状中的至少一种。

10.一种显示装置制备方法，其特征在于，包括：

提供衬底，所述衬底具有指纹识别区和至少部分围绕所述指纹识别区设置的正常显示区，所述衬底包括第二无机层；

在所述指纹识别区、所述衬底上形成图案化的光阻断层，所述光阻断层具有多个挡光单元；

在所述光阻断层背离所述衬底一侧形成第一无机层，沿所述显示装置的膜层堆叠方向，所述第二无机层的厚度小于等于所述第一无机层的厚度；

在所述光阻断层背离所述衬底一侧形成有源层，所述有源层包括多个有源单元，在垂直于所述衬底的方向上，所述挡光单元的正投影至少覆盖至少一个所述有源单元的正投影；

在所述有源层背离所述衬底一侧依次形成发光层和封装层，以形成显示面板；

在所述显示面板背离所述衬底一侧设置有用于放置指纹识别元件、对应所述指纹识别区的第一凹槽，所述第一凹槽覆盖有第一遮光胶带；

将所述第一凹槽的所述第一遮光胶带剥离；

将柔性电路板邦定于所述显示面板，其中，所述柔性电路板具有和所述第一凹槽对应的第二凹槽；

在所述第一凹槽和所述第二凹槽内设置指纹识别元件；

在所述第二凹槽背离所述指纹识别元件一侧覆盖第二遮光胶带。