[发明专利]集成组件和形成集成组件的方法在审

专利信息
申请号: 202110510311.2 申请日: 2021-05-11
公开(公告)号: CN113675207A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 王宜平;A·李;李皓玉;M·J·金;W·Y·吴;Y·J·胡 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L27/11565 分类号: H01L27/11565;H01L27/1157;H01L27/11582
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王艳娇
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及集成组件以及形成集成组件的方法。一些实施例包含一种集成组件,其具有含有半导体材料的第一结构,且具有接触所述第一结构的第二结构。所述第一结构具有沿着与所述第二结构的界面的组成物。所述组成物包含浓度在约1018原子/cm3到约1021原子/cm3范围内的添加剂。所述添加剂包含碳、氧、氮和硫中的一或多种。一些实施例包含形成集成组件的方法。
搜索关键词: 集成 组件 形成 方法
【主权项】:
暂无信息
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