[发明专利]铜钼蚀刻剂组合物，铜钼膜层的蚀刻方法与显示面板在审
| 申请号： | 202110507286.2 | 申请日： | 2021-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN113278975A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 何毅烽 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26;C23F1/02;G02F1/13 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 吕姝娟 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种铜钼蚀刻剂组合物，铜钼膜层的蚀刻方法与显示面板，所述铜钼蚀刻剂组合物包括：过氧化氢、水以及蚀刻辅助剂，其中，所述蚀刻辅助剂在所述铜钼蚀刻剂组合物中的质量百分含量为4wt％‑20wt％，所述蚀刻辅助剂包括过氧化氢稳定剂、蚀刻抑制剂、蚀刻添加剂以及pH调节剂。在该铜钼蚀刻剂中，除必须的蚀刻成分过氧化氢以及水以外，其他所添加的蚀刻辅助剂的含量少，大大降低了生产制造的成本，同时该铜钼蚀刻剂仍具备良好的蚀刻性能，可有效避免钼残不良的发生，且具有较长的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 铜钼膜层 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司，未经TCL华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110507286.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：成像系统、镜头模组及电子设备
- 下一篇：一种抗菌型胶原基医用材料及其制备方法
