[发明专利]集成芯片、图像传感器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202110505958.6 申请日: 2021-05-10
公开(公告)号: CN114695404A 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 周正贤;李升展;王子睿;陈升照 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 顾伯兴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 在一些实施例中,本公开涉及一种集成晶片、图像传感器及其形成方法。图像传感器包括衬底。光检测器位于衬底中且包含延伸到衬底的第一侧中的半导体保护环。浅沟槽隔离结构延伸到衬底的第一侧中。外部隔离结构延伸到与衬底的第一侧相对的衬底的第二侧中到达浅沟槽隔离结构。浅沟槽隔离结构和外部隔离结构横向包围光检测器。内部隔离结构延伸到衬底的第二侧中且上覆光检测器。内部隔离结构通过衬底与光检测器竖直分离。此外,外部隔离结构横向包围内部隔离结构。
搜索关键词: 集成 芯片 图像传感器 及其 形成 方法
【主权项】:
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