[发明专利]半导体器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110480911.9 申请日: 2021-04-30
公开(公告)号: CN113206074A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 蔡佩庭;张钦福;冯立伟 申请(专利权)人: 福建省晋华集成电路有限公司
主分类号: H01L27/01 分类号: H01L27/01;H01L21/822;H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;陈敏
地址: 362200 福建省泉州*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请提供了一种半导体器件及其制备方法,所述半导体器件包括间隔设置的多个下电极;其中,所述下电极具有外侧部;设置于每个下电极周围并与每个下电极外侧部直接接触的支撑层;其中,所述支撑层包括间隔设置的多个开口部;每个所述开口部与若干所述下电极接触,每个所述下电极的侧壁外侧部至少部分与所述支撑层接触,且至少一个所述下电极的横切面与所述开口部的横切面的重叠部分的总面积大于单个所述下电极的横切面面积的70%。本申请中,即使该下电极与支撑层接触的部分面积很小,该下电极也不会倒塌,开口部得以暴露出该下电极的大部分表面,在维持下电极不会倒塌的基础上,大大降低了电容介质层和上电极的工艺难度。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建省晋华集成电路有限公司,未经福建省晋华集成电路有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110480911.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top