[发明专利]电容计算方法以及基板的厚度计算方法在审
| 申请号： | 202110480256.7 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113804974A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 崔廷毫 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | G01R27/26 | 分类号： | G01R27/26;G01B21/08 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 李英艳;玉昌峰 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开一种电容计算方法以及基板的厚度计算方法。电容计算方法可以包括：利用电容测量装置测量多个测量电容的步骤；计算针对与多个测量电容中的每一个相对应的蒸镀参数的多个蒸镀系数、针对与多个测量电容中的每一个相对应的曝光参数的多个曝光系数以及针对与多个测量电容中的每一个相对应的蚀刻参数的多个蚀刻系数的步骤；计算针对多个蒸镀系数的校正蒸镀系数、针对多个曝光系数的校正曝光系数以及针对多个蚀刻系数的校正蚀刻系数的步骤；以及基于包括蒸镀参数、校正蒸镀系数、曝光参数、校正曝光系数、蚀刻参数以及校正蚀刻系数的电容计算式计算电容的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 电容 计算方法 以及 厚度 | ||
【主权项】：
暂无信息
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