[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 202110393477.0 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN113540086A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 金柱然;姜尚廷;金真雨;尹智 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L29/423;H01L23/48;H01L21/8238
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 弋桂芬
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种半导体器件。该半导体器件包括:基板,包括第一区域和第二区域;第一栅极结构,在基板的第一区域上沿第一方向延伸,该第一栅极结构包括第一栅极绝缘膜和设置在第一栅极绝缘膜上的第一功函数膜;以及第二栅极结构,在基板的第二区域上沿第一方向延伸,该第二栅极结构包括第二栅极绝缘膜和设置在第二栅极绝缘膜上的第二功函数膜,其中第一功函数膜在与第一方向交叉的第二方向上的第一厚度不同于第二功函数膜在第二方向上的第二厚度,以及其中第一功函数膜在垂直于第一方向和第二方向的第三方向上的第一高度不同于第二功函数膜在第三方向上的第二高度。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
暂无信息
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