[发明专利]阵列基板及其制备工艺、显示面板和显示装置在审

专利信息
申请号: 202110390869.1 申请日: 2021-04-12
公开(公告)号: CN112885853A 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 乔亚峥;郭会斌;沈鹭;孔曾杰;王明;代耀;刘俊;赵达裕;丁俊 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;武汉京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;G02F1/1362
代理公司: 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 代理人: 韩来兵
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种阵列基板及其制备工艺、显示面板和显示装置。阵列基板包括过孔区和搭接金属线,所述过孔区至少设置有两个且所述过孔区内均形成有第一过孔,所述搭接金属线的两端分别伸入两个过孔区内的第一过孔,所述过孔区在所述阵列基板的厚度方向包括依次层叠设置的衬底基板、公共电极、栅极绝缘层、第一有源层、钝化层和像素电极,所述搭接金属线位于所述有源层和钝化层之间。阵列基板结构简单、易于实现,在不增加生产工序及成本的条件下,可以提高过孔区的膜层厚度,增加了搭接金属线与公共电极的距离,同时可以缩小孔洞处两者的正对面积,有效解决了过孔易发生异常放电的难题,提高了产品的良率。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 工艺 显示 面板 显示装置
【主权项】:
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