[发明专利]水平井的井眼轨迹校正方法、装置、设备和存储介质在审
| 申请号： | 202110390087.8 | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN113719236A | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 高健;王国勇;魏斌;梁治国;熊小林;白森;段志勇;刘吉;沈柏坪;曾番惠;田士伟;郑丽君;敖苍穹 | 申请（专利权）人： | 中国石油天然气集团有限公司;中国石油集团长城钻探工程有限公司 |
| 主分类号： | E21B7/04 | 分类号： | E21B7/04;E21B44/00;E21B49/00;G06T11/20 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 侯晓雅 |
| 地址： | 100007 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种水平井的井眼轨迹校正方法、装置、设备和存储介质，属于石油勘探与开发技术领域。方法包括：基于化学元素参数和笔石参数，分别确定待研究储层的岩相图和笔石图；基于岩相图和笔石图，确定第一对比图；基于笔石图和第一测井曲线，确定第二对比图；基于待研究储层的每个地层的化学元素参数，确定待研究储层的目标储层；基于第一对比图，确定目标储层的目标岩相类型和目标笔石类型；基于第二测井曲线、第二对比图、随钻曲线和随钻解释曲线，确定钻井地层的岩相类型和笔石类型；基于钻井地层的岩相类型和笔石类型与目标岩相类型和目标笔石类型的差别，调整目标井的井眼轨迹，使井眼轨迹对准目标储层，提高了待研究储层的开发效率。 | ||
| 搜索关键词： | 水平 轨迹 校正 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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