[发明专利]多微波源等离子体化学气相沉积装置有效

专利信息
申请号: 202110376021.3 申请日: 2021-04-08
公开(公告)号: CN113088938B 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 杨阳;朱铧丞 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: C23C16/511 分类号: C23C16/511;C23C16/27
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 韩雪
地址: 610041 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了多微波源等离子体化学气相沉积装置,属于微波应用技术领域,包括屏蔽外壳、石英围挡、基台和若干个微波源;屏蔽外壳内设有反应腔;反应腔内设有石英围挡;石英围挡的顶部和底部分别延伸至屏蔽外壳的顶板和底板;石英围挡包围有基体腔;屏蔽外壳的顶板和底板分别封闭基体腔的顶部和底部;基体腔内设有基台;基台用于放置基体;屏蔽外壳上设有和微波源一一对应的馈口;馈口用于对应的微波源向基体腔之外的反应腔内输入微波。本发明的多微波源等离子体化学气相沉积装置,制出的金刚石薄膜质量高,不含杂质,对微波源功率要求低,成本低,微波能量利用率高,电场强度高,场强分布集中,各微波输入端口之间隔离度大。
搜索关键词: 微波 等离子体 化学 沉积 装置
【主权项】:
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