[发明专利]多微波源等离子体化学气相沉积装置有效

专利信息
申请号: 202110376021.3 申请日: 2021-04-08
公开(公告)号: CN113088938B 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 杨阳;朱铧丞 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: C23C16/511 分类号: C23C16/511;C23C16/27
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 韩雪
地址: 610041 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 微波 等离子体 化学 沉积 装置
【权利要求书】:

1.多微波源等离子体化学气相沉积装置,其特征在于:包括屏蔽外壳(1)、石英围挡(2)、基台(3)和若干个微波源;所述屏蔽外壳(1)内设有反应腔;所述反应腔内设有石英围挡(2);所述石英围挡(2)的顶部和底部分别延伸至屏蔽外壳(1)的顶板和底板;所述石英围挡(2)包围有基体腔(4);所述屏蔽外壳(1)的顶板和底板分别封闭基体腔(4)的顶部和底部;所述基体腔(4)内设有基台(3);所述基台(3)用于放置基体(14);所述屏蔽外壳(1)上设有和微波源一一对应的馈口(5);所述馈口(5)用于对应的微波源向基体腔(4)之外的反应腔内输入微波;所述屏蔽外壳(1)的顶板上设有向上凸起的罩体(6);所述罩体(6)内设有调整腔(7);所述调整腔(7)位于基台(3)的正上方;所述调整腔(7)底部和基体腔(4)连通;若干个微波源及对应的馈口(5)位于屏蔽外壳(1)的顶板上,并均匀环绕石英围挡(2);所述反应腔内设有若干个模片;若干个模片均匀环绕石英围挡(2);若干个模片将基体腔(4)之外的反应腔均匀分割为若干个微波输入腔(8);所述微波输入腔(8)和微波源一一对应;所述微波源向对应的微波输入腔(8)输入微波;所述模片为椭圆曲面模片(12);所述椭圆曲面模片(12)的顶部和底部分别延伸至屏蔽外壳(1)的顶板和底板;相邻的椭圆曲面模片(12)之间相交;所述馈口(5)位于对应的椭圆曲面模片(12)所在椭圆的第一焦点上;所述基台(3)位于所有的椭圆曲面模片(12)所在椭圆的第二焦点上。

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