[发明专利]图形处理方法、电子设备、服务器和存储介质有效
| 申请号： | 202110371757.1 | 申请日： | 2021-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN112966458B | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 黄文豪;刘伟平;杨祖声;代超 | 申请（专利权）人： | 北京华大九天科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/31 | 分类号： | G06F30/31;G06F30/3953;G06F115/12 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 蔡纯;李镇江 |
| 地址： | 100102 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种图形处理方法、电子设备、服务器和存储介质，能根据器件的版图信息设置布线之间填充图形的适配参数，并以此选取出满足该适配参数相应设定条件的填充区域，通过对Fanout图形中该填充区域的筛选操作得到该填充区域中相邻布线之间可进行图形填充操作的填充图形集合，作为间隙填充单元，将至少一个的间隙填充单元按预定规则填充到前述的填充区域，以此在设计阶段解决线网图形因间距过大而导致生产时在(布线)间距内积留太多的刻蚀液，从而导致间距旁的图形被过渡刻蚀的问题，减少后期校验过程中面板设计工程师的工作量，从而提高了设计效率，进而提高了批量生产的良率和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 处理 方法 电子设备 服务器 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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