[发明专利]半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110262666.4 申请日: 2021-03-10
公开(公告)号: CN113764417A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 禹昌秀;金海龙;金润洙;文瑄敏;宋政奎;郑圭镐 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李敬文
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体器件包括:导电柱,在半导体衬底上;第一支撑图案,所述第一支撑图案接触所述导电柱的侧表面的第一部分并且将所述导电柱相互连接,所述第一支撑图案包括暴露所述导电柱的侧表面的第二部分的第一支撑孔;封盖导电图案,所述封盖导电图案接触所述导电柱的侧表面的第二部分并且暴露所述第一支撑图案,所述导电柱的侧表面的第二部分不与所述第一支撑图案接触;以及电介质层,所述电介质层覆盖所述第一支撑图案和所述封盖导电图案,所述电介质层与所述导电柱间隔开。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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