[发明专利]边缘环及等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202110259906.5 | 申请日： | 2021-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN113471047A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 小笠原正宏;花冈秀敏;池上真史;佐藤直行;塚原利也 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种边缘环及等离子体处理装置，该边缘环的耐等离子体性得到提高。该边缘环由包含碳化硼和碳化硅的材料构成，所述材料中含有的碳化硼的含量比为30％～50％。 | ||
| 搜索关键词： | 边缘 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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