[发明专利]微影系统和标线片结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110069426.2 申请日: 2021-01-19
公开(公告)号: CN113204168A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 林雲躍 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G03F1/62 分类号: G03F1/62;G03F1/64;G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种微影系统和标线片结构及其制造方法,标线片结构包含具有图案化特征的标线片和围绕图案化特征的第一边界部分。标线片结构包含薄膜,此薄膜具有中间部分和围绕中间部分的第二边界部分。标线片结构包含设置在薄膜和标线片之间的框架,以将薄膜安装在标线片的图案化特征上。框架在标线片和薄膜之间建立了一个封闭空间,并包围了标线片的图案化特征。框架包含多个孔,并且多个孔在框架中产生开口的临界百分比,以将封闭空间与封闭空间外部之间的平衡压力差维持在临界压力以下。
搜索关键词: 系统 标线 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
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