[发明专利]半导体存储装置在审

专利信息
申请号: 202110053986.9 申请日: 2021-01-15
公开(公告)号: CN113497059A 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 峰村洋一;高桥检世;浅野孝司 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11565;H01L27/11582
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 白丽
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的半导体存储装置具备多个第1绝缘层和多个第1栅极电极层沿第1方向交替地层叠而成的第1层叠体、设置于第1层叠体之中且沿第1方向延伸的第1半导体层、设置于第1半导体层与第1栅极电极层之间的第1电荷蓄积层、多个第2绝缘层与多个第2栅极电极层沿第1方向交替地层叠而成的第2层叠体、设置于第2层叠体之中且沿第1方向延伸的第2半导体层、设置于第2半导体层与第2栅极电极层之间的第2电荷蓄积层、设置于第1层叠体与第2层叠体之间且沿第1方向及与第1方向垂直的第2方向延伸的导电层、以及设置于第1栅极电极层与导电层之间且包含选自由磷、硼、碳及氟构成的组中的至少一种元素的第1氧化硅层。
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【主权项】:
暂无信息
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