[发明专利]用于具有气流旋转的外延反应器的反应室的基底支撑装置、反应室和外延反应器在审
| 申请号： | 202080081390.3 | 申请日： | 2020-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN114729453A | 公开（公告）日： | 2022-07-08 |
| 发明（设计）人： | 西尔维奥·佩雷蒂;毛里利奥·梅斯基亚 | 申请（专利权）人： | 洛佩诗公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;郑霞 |
| 地址： | 意大利米*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于在外延反应器的反应室中支撑基底的装置(420)；装置(420)包括：盘形元件(422)，其具有第一面(422A)和第二面(422B)，第一面(422A)适于在使用装置(420)时向上定位，第二面(422B)适于在使用装置(420)时向下定位，所述盘形元件(422)适于接收气流(F)以使装置(420)绕其轴线(X)旋转；基底支撑元件(424)，其与所述盘形元件(422)成单件并且优选地邻近所述第一面(422A)；以及轴(426)，其与所述盘形元件(422)同轴，与所述盘形元件(422)成单件并且在所述第二面(422B)处具有第一端(426A)，所述轴(426)在其第二端(426B)处具有至少一个突出部(428A、428B、428C)，突出部(428A、428B、428C)的旋转适于由高温计(430)或热像仪检测。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 具有 气流 旋转 外延 反应器 反应 基底 支撑 装置 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
