[发明专利]用于具有气流旋转的外延反应器的反应室的基底支撑装置、反应室和外延反应器

权利要求书

1.一种高温计(430)的用途，用于估计或确定用于在外延反应器的反应室中支撑基底的装置(420)的旋转速度；其中所述用途提供：

当所述装置(420)旋转时，所述高温计(430)保持在恒定方向上定向，使得所述高温计(430)检测到的温度由于所述装置(420)的旋转而经历周期性变化，

以及

所述旋转速度由电连接到所述高温计(430)的处理电子单元(490)基于所述周期性变化的周期来计算。

2.一种用于在外延反应器的反应室中支撑基底的装置(420)，包括：

盘形元件(422)，所述盘形元件(422)具有第一面(422A)和第二面(422B)，所述第一面(422A)适于在使用所述装置(420)时向上定位，所述第二面(422B)适于在使用所述装置(420)时向下定位，所述盘形元件(422)适于接收气流(F)以使所述装置(420)绕其轴线(X)旋转，

基底支撑元件(424)，所述基底支撑元件(424)与所述盘形元件(422)成单件且优选地邻近所述第一面(422A)，

轴(426)，所述轴(426)与所述盘形元件(422)同轴，与所述盘形元件(422)成单件并且在所述第二面(422B)处具有第一端(426A)；

其中，所述轴(426)在其第二端(426B)处具有至少一个突出部(428A、428B、428C)，所述突出部的旋转适于由高温计(430)或热像仪检测。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述至少一个突出部(428B、428B、428C)的旋转适于由高温计(430)检测。

4.根据权利要求2或3所述的装置(420)，其中，所述轴在其第二端(426B)处具有两个或三个突出部(428A、428B、428C)或四个突出部，所述突出部的旋转适于由高温计(430)或热像仪检测，所述突出部(428A、428B、428C)优选地在所述突出部之间相等。

5.根据权利要求2或3或4所述的装置(420)，其中，所述至少一个突出部(428A、428B、428C)是垂直于所述轴(426)的轴线(X)延伸的板。

6.根据前述权利要求2至5中任一项所述的装置(420)，其特征在于，所述装置完全由石墨制成。

7.根据前述权利要求2至6中任一项所述的装置(420)，其中，所述轴(426)机械地固定到所述盘形元件(422)上。

8.根据前述权利要求2至7中任一项所述的装置(420)，其中，所述突出部(428A、428B、428C)机械地固定到所述轴(426)上。

9.根据前述权利要求2至8中任一项所述的装置(420)，包括围绕所述轴(426)的一部分的保护承槽。

10.一种用于外延反应器的反应室(1)，包括根据前述权利要求2至9中任一项所述的装置(420)。

11.根据权利要求10所述的反应室(1)，包括用于支撑基底的所述装置(420)的气体旋转的系统。

12.根据权利要求10或11所述的反应室(1)，其中，所述装置(420)的盘形元件(422)可旋转地容纳在所述室(1)的壁(31)的座中。

13.根据权利要求12所述的反应室(1)，其中，所述座具有被所述装置(420)的轴(426)横穿的通孔。

14.根据权利要求12或13所述的反应室(1)，其中，所述壁(31)是内壁。

15.根据权利要求12或13或14所述的反应室(1)，其中，所述壁(31)具有适于让气流(F)流动以旋转所述装置(420)的内部管道(416)。