[发明专利]半导体装置以及电力转换装置在审

专利信息
申请号: 202080061875.6 申请日: 2020-04-22
公开(公告)号: CN114391184A 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 古川智康;白石正树;渡边聪;三好智之;竹内悠次郎 申请(专利权)人: 株式会社日立功率半导体
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06;H01L29/739;H01L21/336
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;范胜杰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种能够抑制由制造时的形状偏差、杂质偏差引起的IGBT单元间的电场偏差所导致的局部的电流电场集中、芯片终端部的电流集中的切断耐量高的半导体装置。其特征在于,具备:发射极电极,其经由层间绝缘膜形成于半导体基板的表面上;集电极,其形成于所述半导体基板的背面上;第一导电型的第一半导体层,其与所述集电极相接,形成于所述半导体基板的背面;第二导电型的第二半导体层,其形成于比所述第一半导体层更靠内侧处;中心区域单元,其沿着所述半导体基板的表面配置;外周区域单元,其在所述半导体基板的平面方向上,位于比所述中心区域单元更靠外侧处,配置在所述中心区域单元与芯片终端保护环区域之间。
搜索关键词: 半导体 装置 以及 电力 转换
【主权项】:
暂无信息
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