[实用新型]一种带有刷洗功能的半导体加工用清洗装置有效

专利信息
申请号: 202022189757.3 申请日: 2020-09-29
公开(公告)号: CN213558589U 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 李硕 申请(专利权)人: 广州市本源投资咨询有限公司
主分类号: B08B1/00 分类号: B08B1/00;B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00
代理公司: 广州科捷知识产权代理事务所(普通合伙) 44560 代理人: 袁嘉恩
地址: 510000 广东省广州市黄*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种带有刷洗功能的半导体加工用清洗装置,属于半导体加工装置技术领域,包括底板、支柱、顶板、驱动机构、存储机构和刷洗机构,所述底板的上表面通过支柱与顶板的下表面固定连接,支柱的外表面套设有多个滑套,滑套的左侧面固定连接有两个第二固定片,两个第二固定片之间铰接有连接杆,连接杆的另一端铰接在两个第一固定片之间。本实用新型中,通过设置滑套、连接杆和存储机构,滑套可以带动连接杆的一端上下移动,连接杆的另一端可以带动存储机构左右移动,可以向存储机构上喷淋清洗液,在清洗液的配合作用下,半导体材料的被清洗效果更好,且刷洗的过程中也会导致半导体材料出现晃动剧烈碰撞的情况,不会导致半导体材料损坏。
搜索关键词: 一种 带有 刷洗 功能 半导体 工用 清洗 装置
【主权项】:
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