[实用新型]一种半导体元件外壳生产用热熔装置有效

专利信息
申请号: 202020621782.1 申请日: 2020-04-22
公开(公告)号: CN212097595U 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 李建立 申请(专利权)人: 无锡珂特芯科技有限公司
主分类号: B29C65/20 分类号: B29C65/20
代理公司: 北京成实知识产权代理有限公司 11724 代理人: 叶立涛
地址: 214135 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种半导体元件外壳生产用热熔装置,包括底座,所述底座内腔的正面固定连接有安装板,所述安装板的背面固定连接有第一气缸,所述第一气缸的背面固定连接有推板,所述推板的顶部固定连接有支撑柱,所述支撑柱的顶部贯穿至底座的顶部并固定连接有放置板。本实用新型通过设置底座、安装板、第一气缸、推板、支撑柱、放置板、支撑板、第二气缸、压板、热熔盘、滑套、滑轮、滑槽、滑块和滑杆的相互配合,达到了安全性能高的优点,解决了现有的热熔装置安全性能低的问题,当人们在使用热熔装置时,便于将完成后的产品进行取出,且在取出时不会触碰到热熔板,不会对人们造成伤害,方便人们使用。
搜索关键词: 一种 半导体 元件 外壳 生产 用热熔 装置
【主权项】:
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