[实用新型]用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平上顶式旋转装置

摘要

本实用新型提供了一种用于制备石墨托盘CVD‑SiC涂层的水平上顶式旋转装置，包括：旋转组件设置有一大支撑旋转轴，大支撑旋转轴底部设置有一突出轴，大支撑旋转轴通过突出轴穿设在一炉底，突出轴穿过炉底固定设置在一炉外承力装置内；承载组件设置有大承力板和四根支架，大承力板固定设置在大支撑旋转轴的上端，支架竖直设置在所述大承力板上，支架上设置有多层承力板，承力板的中心均开设有中心孔，中心孔内均设置有一托盘支撑轴，托盘支撑轴的上端均设置有石墨托盘。本装置结构稳定、使用便捷，涂层制备均匀且纯度高，具有装炉率高、合格率高、生产效率高等特点，能够满足各行业MOCVD外延用的SiC涂层的石墨托盘等产品的生产需要。