[发明专利]一种功率器件及其划片方法、芯片级封装方法和封装结构在审

专利信息
申请号: 202011631198.5 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN113161233A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 黄平;鲍利华;顾海颖 申请(专利权)人: 上海朕芯微电子科技有限公司
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;H01L21/78;H01L21/02;H01L23/31;H01L21/56
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 竺路玲
地址: 200000 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种功率器件及其划片方法、芯片级封装方法和封装结构。对晶圆正面的划片道进行正面划片形成划片槽,在划片槽内填充树脂层;对晶圆背面进行研磨减薄,使划片槽以及填充于划片槽的树脂层在晶圆背面显露出来;对减薄后的晶圆背面的树脂层进行腐蚀,使树脂层的背面低于晶圆背面;在晶圆背面进行背面金属化形成背面金属化层,在树脂层的背面处形成金属凹陷部;将金属凹陷部作为对位标记,在晶圆背面对准金属凹陷部进行背面划片,将各个管芯进行分离。避免因金属背面化层在划片过程中出现拉丝现象而导致的短路想象,减低背面划片困难,金属凹陷部作为对位标记有利于从晶圆背面进行划片。
搜索关键词: 一种 功率 器件 及其 划片 方法 芯片级 封装 结构
【主权项】:
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