[发明专利]一种半导体晶圆的自动化脱胶装置在审
申请号: | 202011577189.2 | 申请日: | 2020-12-28 |
公开(公告)号: | CN112750732A | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 孔德凤 | 申请(专利权)人: | 河南大圣印象信息技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 合肥方舟知识产权代理事务所(普通合伙) 34158 | 代理人: | 刘跃 |
地址: | 450000 河南省郑州市高新技*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种半导体晶圆的自动化脱胶装置,至少包括箱体、待定腔、清洗腔、加热腔、隔板、移动块、伸缩杆以及工作筐,所述箱体的内部从左至右依次设置有待定腔、清洗腔以及加热腔,且相邻两个腔体间设置有隔板,所述隔板上开设有缺口,所述箱体呈敞口状且箱体的箱沿上设置有可沿水平方向移动的移动块,所述移动块上固定有固定板,所述固定板的下板面设置有伸缩杆,所述伸缩杆的底端可拆卸的固定有与缺口为配合结构的工作筐。本发明巧妙的将待定腔、清洗腔以及加热腔结合在一个箱体内,通过移动块以及伸缩杆的综合作用,可以高效的完成半导体晶圆的脱胶工作,从而并且了人工远输所带来的诸多缺陷。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 自动化 脱胶 装置 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造