[发明专利]量子点发光二极管底电极及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011550009.1 申请日: 2020-12-24
公开(公告)号: CN114665038A 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 敖资通;严怡然;张建新;杨帆;赖学森;洪佳婷 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 郝文婷
地址: 516006 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及显示技术领域,提供了一种量子点发光二极管底电极及其制备方法。本发明通过对电极层进行结晶化处理,可以使电极层中原本处于非晶态的导电金属氧化物结晶化,然后再经刻蚀处理将未结晶化的部分去除掉,不仅可以达到充分退火的目的,使电极层的载流子迁移率得到提高,而且避免了常规加热退火处理过程中对反射层造成的负面影响。同时,本发明制备过程中无需激光刻蚀设备,也无需制备抗蚀剂膜层,既简化了制备工艺,又降低了生产成本,更适合实验室小规模研发的需求。本发明量子点发光二极管底电极用于制备顶发射量子点发光二极管,所得顶发射量子点发光二极管具有较好的发光效率和性能。
搜索关键词: 量子 发光二极管 电极 及其 制备 方法
【主权项】:
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