[发明专利]一种光刻机的晶片传送装置在审

专利信息
申请号: 202011384580.0 申请日: 2020-12-02
公开(公告)号: CN112614798A 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 周杰;张琪;符友银;李俊毅 申请(专利权)人: 北京新毅东科技有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677
代理公司: 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 代理人: 侯克邦
地址: 100043 北京市石景*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种光刻机的晶片传送装置,包括密封外壳和分流密封外壳,密封外壳的左侧与分流密封外壳的右侧连接;密封外壳顶面安装有气泵,气泵右侧设置有输气管,输气管的两端分别与气泵右侧和密封外壳顶面右部连通;密封外壳底面安装有支架,支架底部安装有支撑柱,支撑柱的上下两端分别与支架底部和地面连接;密封外壳右端一侧地面上安置有氮气瓶,氮气瓶顶部与气泵顶部连通;该传送装置加装密封外壳,可有效隔绝空气,防止晶片受潮氧化,氮气瓶和气泵将氮气送入设备内对晶片吹干清理,防止落灰或受潮,分流台表面的小型旋转辊可旋转改变转动朝向,从而改变输送物的流向,可将不同类型的晶片载板分流至相应的作业传送带上,高效便利。
搜索关键词: 一种 光刻 晶片 传送 装置
【主权项】:
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