[发明专利]基片处理装置和基片处理方法在审
| 申请号： | 202011346508.9 | 申请日： | 2020-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN112925178A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 西山淳;池田文彦;野田隆广;井本直树 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能够提高基片的电路图案的精度的基片处理装置和基片处理方法。实施方式的基片处理装置包括输送机构、改性装置和显影装置。输送机构平流地输送抗蚀剂膜的一部分被曝光了的基片。改性装置对由输送机构输送的基片进行抗蚀剂膜的改性处理。显影装置对进行了改性处理且由输送机构输送的基片进行显影处理。改性装置包括供给处理部、改性清洗处理部和改性干燥处理部。供给处理部将改性液供给到基片。改性清洗处理部对被供给了改性液的基片供给冲洗液，对基片进行清洗。改性干燥处理部从基片除去冲洗液，使基片干燥。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
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- 张建;程虎;陈兴隆 - 上海芯源微企业发展有限公司
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- 本发明提供一种涂胶显影设备和方法，该设备包括片盒模块、层间工艺模块、层内工艺模块和穿墙单元组；片盒模块和层内工艺模块分别设于层间工艺模块的两侧；片盒模块用于装载和传输晶圆传送盒，晶圆传送盒用于装载晶圆；层间工艺模块内设有层间机械手组，层间机械手组用于在层间工艺模块内传输晶圆；层内工艺模块内设有L层工艺层；每层工艺层均包括层内机械手和层内工艺组，层内机械手用于在工艺层内传输晶圆；穿墙单元组设于层内工艺模块和层间工艺模块之间；L个穿墙单元组与L层工艺层一一对应设置；每个穿墙单元组用于将晶圆从层间工艺模块传输向工艺层，或/和将晶圆从工艺层传输向层间工艺模块。该设备用于提升涂胶显影设备的产能。
- 显影方法和显影装置-201911255827.6
- 王绪根;吴长明;姚振海;陈骆;韩建伟;刘冲 - 华虹半导体（无锡）有限公司
- 2019-12-10 - 2023-09-12 - G03F7/30
- 本发明涉及半导体制造技术领域，具体涉及一显影方法和显影装置。其中，显影方法包括使曝光后的晶圆以第一速度旋转，辅助液喷头沿径向从晶圆的边缘区域处向晶圆的中心移动，辅助液喷头在移动过程中喷出辅助液；使晶圆提高旋转速度，显影液喷头在晶圆的中心区域喷出预湿显影液；使晶圆的旋转速度提高到第二速度，保持第二速度旋转第一时间段，扩展预湿显影液和辅助液以均匀润湿晶圆表面的光刻胶；对晶圆进行显影。显影装置包括旋转机构、显影液喷头、辅助液喷头以及用于输出控制信号的控制系统，控制信号用于控制旋转机构、显影液喷头和辅助液喷头执行显影方法。本发明通过预湿过程解决相关技术中显影过程中显影图案缺陷的问题。
- 液体分配喷嘴和基板处理装置-201911000687.8
- 崔炳斗;柳杨烈;吴东燮;白惠斌 - 细美事有限公司
- 2019-10-21 - 2023-09-05 - G03F7/30
- 本发明构思涉及一种液体分配喷嘴和一种用于处理基板的装置。液体分配喷嘴包括第一流体通道，其形成在喷嘴中，并且处理液流过该第一流体通道，和第二流体通道，其与第一流体通道连通，第二流体通道连接到喷嘴的分配端。第二流体通道具有大于第一流体通道的宽度，并且第一流体通道的中心轴线和第二流体通道的中心轴线以直线彼此连接。
- 自动调节检测加报警防堵板显影机-201810075339.6
- 况峰 - 江西尼罗电器有限责任公司
- 2018-01-26 - 2023-08-25 - G03F7/30
- 本发明公开了一种自动调节检测加报警防堵板显影机，包括显影机本体，显影机本体包括支承台、左板、右板、顶板、左导轨、右导轨、横板、纵向螺母、纵向马达、纵向丝杆、纵向螺母、横向螺母、横向马达、横向丝杆、横向导轨、喷头固定板、显影水喷头、排水漏斗；在显影机本体外部设置有第一支撑立柱、第二支撑立柱、支撑架体、第一伸缩调节器、第二伸缩调节器、第一滑动座体、第二滑动座体，第一滑动座体和第二滑动座体滑动安装在滑动轨道上，滑动轨道安装在支撑板体上；在显影机本体的一侧通过液位管连接有液位槽，在液位槽内设置有防堵板，并在液位槽上设置有液位计，液位计与PLC控制器电连接，PLC控制器与人机界面、报警装置电性连接。
- 专利分类
