[发明专利]一种堆叠键合式IGBT器件在审
申请号: | 202011321046.5 | 申请日: | 2020-11-23 |
公开(公告)号: | CN112420630A | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 罗景涛;严可为 | 申请(专利权)人: | 西安众力为半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L29/739;H01L25/18 |
代理公司: | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 王营超 |
地址: | 710077 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提供了一种堆叠键合式IGBT器件,包括MOS结构芯片、衬底晶圆片和台面钝化保护层;MOS结构芯片键合于衬底晶圆片的上方,台面钝化保护层位于衬底晶圆片的上表面和MOS结构芯片的两端及其上表面的两侧,MOS结构芯片的宽度小于所述衬底晶圆片的宽度。本发明采用堆叠‑键合技术制作的IGBT器件,因为不存在“薄片‑背面加工”的步骤,避免了难度很大且成本很高的薄片工艺、背加工工艺;能够显著压缩制造成本,同时针对台面结构进行了钝化和保护,连同器件原有的终端等保护结构在一起,充分提供了对于器件性能的保障。 | ||
搜索关键词: | 一种 堆叠 合式 igbt 器件 | ||
【主权项】:
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