[发明专利]一种检测晶圆偏置的系统、工艺腔室及检测方法在审
| 申请号： | 202011293361.1 | 申请日： | 2020-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN114520159A | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 高龙哲;李俊杰;李琳;王佳;周娜 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 | 代理人： | 丛洪杰 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种检测晶圆偏置的系统、工艺腔室及检测方法，属于半导体制造技术领域，解决了现有的半导体制造设备中并无检测晶圆是否偏置的装置，导致产品良率低的问题。该检测晶圆偏置的系统包括卡盘、感应部件、控制系统以及数据采集和处理系统，感应部件设于卡盘的背面边缘处，感应部件的数量为多个。检出方法包括将晶圆置于卡盘上；感应部件感应数据；数据采集和处理系统采集数据，并与放置晶圆前的数据进行比较；如果需要调整晶圆的位置，则向控制系统发送指令，控制系统调整晶圆的位置；如果不需要调整晶圆的位置，则进行后续处理工艺。本发明实现了准确、高效、方便地检测出晶圆是否偏置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 检测 偏置 系统 工艺 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司，未经中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011293361.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：泵
- 下一篇：含天然气水合物的沉积物动力特性实验检测装置及方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
