[发明专利]一种低反射增透膜及其制备工艺在审
| 申请号： | 202011287445.4 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112198566A | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 林映庭;赵伟;苏启雄;徐小东;赵堃;刘耿 | 申请（专利权）人： | 重庆盛泰光电有限公司;东莞市微科光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王雨 |
| 地址： | 400000 重庆市大足区*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低反射增透膜及其制备工艺，低反射增透膜包括原有膜系结构，还包括设于原有膜系结构中的第一附加膜和第二附加膜，第一附加膜和第二附加膜分别取代底层和光学介质层的部分厚度，使增加附加结构后的整体厚度与原有膜系结构的厚度相同。在制备工艺中，在透明基底中镀膜形成底层和光学介质层时减小每一层的镀膜量，同时增加镀膜形成附加结构，使增加附加结构后的整体厚度与原有膜系结构的厚度相同。本发明通过降低原有膜系结构的厚度，并在其中增加附加结构以取代减少的层厚度，达到带宽前移的效果，能够对于波长范围在400～420nm的紫光达到低反射增透的效果，从而避免了紫光成像不良的问题，改善了成像效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 增透膜 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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