[发明专利]波纹管及半导体制造设备在审
申请号: | 202011176499.3 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN114429895A | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 将镇宪;高建峰;丁云凌;刘卫兵 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 房德权 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种波纹管及半导体制造设备,其中,所述波纹管的内侧壁为褶皱结构,所述波纹管包括:覆盖管,所述覆盖管内嵌于所述波纹管内,并与所述褶皱结构之间密封衔接,其中,所述覆盖管的内侧壁为非褶皱结构,且所述覆盖管可随所述波纹管在所述波纹管的折叠伸缩方向上改变长度。本申请中通过内侧壁为非褶皱结构的覆盖管,覆盖内侧壁为褶皱结构的波纹管,由于内侧壁为非褶皱结构的覆盖管相对于波纹管原本的褶皱结构来说,不容易堆积粉尘,而且更容易清理,本申请解决了现有技术中波纹管的褶皱容易堆积粉尘、不易清理的技术问题。 | ||
搜索关键词: | 波纹管 半导体 制造 设备 | ||
【主权项】:
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