[发明专利]熔丝结构及形成方法在审
申请号: | 202011086700.9 | 申请日: | 2020-10-12 |
公开(公告)号: | CN114334902A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 王蒙蒙;黄信斌 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01L23/525 | 分类号: | H01L23/525;H01L21/768 |
代理公司: | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 成丽杰 |
地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种熔丝结构及形成方法,其中,熔丝结构包括:第一电介质层,以及贯穿所述第一电介质层的至少两个分立的第一导电插塞;第二导电插塞,所述第二导电插塞电连接至少两个所述第一导电插塞;顶层金属层,所述顶层金属层电连接所述第二导电插塞,且位于所述第二导电插塞远离所述第一导电插塞的一侧;第二电介质层,所述第二电介质层位于所述第一电介质层顶部,且所述第二导电插塞以及所述顶层金属层位于所述第二电介质层内。本发明实施例简化了熔丝结构,提升了熔丝结构的产出效率。 | ||
搜索关键词: | 结构 形成 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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