[发明专利]熔丝结构及形成方法在审

专利信息
申请号: 202011086700.9 申请日: 2020-10-12
公开(公告)号: CN114334902A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 王蒙蒙;黄信斌 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L23/525 分类号: H01L23/525;H01L21/768
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 代理人: 成丽杰
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明实施例提供一种熔丝结构及形成方法,其中,熔丝结构包括:第一电介质层,以及贯穿所述第一电介质层的至少两个分立的第一导电插塞;第二导电插塞,所述第二导电插塞电连接至少两个所述第一导电插塞;顶层金属层,所述顶层金属层电连接所述第二导电插塞,且位于所述第二导电插塞远离所述第一导电插塞的一侧;第二电介质层,所述第二电介质层位于所述第一电介质层顶部,且所述第二导电插塞以及所述顶层金属层位于所述第二电介质层内。本发明实施例简化了熔丝结构,提升了熔丝结构的产出效率。
搜索关键词: 结构 形成 方法
【主权项】:
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