[发明专利]不光洁探测面的水浸探伤方法在审
| 申请号： | 202011054554.1 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN114324613A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 强超 | 申请（专利权）人： | 贵州安大航空锻造有限责任公司 |
| 主分类号： | G01N29/24 | 分类号： | G01N29/24;G01N29/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 561005 贵州省*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种不光洁探测面的水浸探伤方法，其特征在于，利用聚焦探头焦柱附近区域声束截面小、能量集中的特点，通过对整个检测截面进行分区扫查，减小每次检测监控的范围，可以在使用较小仪器增益情况下，满足检测灵敏度要求。同时探头焦点附近区域声场所包含的工件体积范围小，减小了超声波与工件组织相互作用的概率，降低表面粗糙及工件组织漫反射所产生的杂波干扰，改善检测信噪比。该方法适用粗糙探测面的水浸检测。 | ||
| 搜索关键词： | 光洁 探测 探伤 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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