[发明专利]不光洁探测面的水浸探伤方法在审
| 申请号： | 202011054554.1 | 申请日： | 2020-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN114324613A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 强超 | 申请（专利权）人： | 贵州安大航空锻造有限责任公司 |
| 主分类号： | G01N29/24 | 分类号： | G01N29/24;G01N29/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 561005 贵州省*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光洁 探测 探伤 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种不光洁探测面的水浸探伤方法，其特征在于：包括以下步骤：
在针对粗糙度Ra1.6～Ra3.2之间，验收标准当量平底孔≥Φ0.8mm时，且加工余量大于检测盲区时可通过采用5MHz、2.5MHz等频率的低频探头来替代高频探头对零件进行检测；
根据与斯奈尔定律来调整水距确定应将焦柱区放于工件内部的位置，来达到减少超声波与工件组织相互作用的概率，降低表面粗糙及工件组织漫反射所产生的杂波干扰，改善检测信噪比的目的；使用新水距时重新绘制检测DAC曲线；当使用频率为10MHz焦距为88.9mm的水浸检测探头时，可以将水距调整为28.9mm。
2.根据权利要求1所述不光洁探测面的水浸探伤方法，其特征在于：所述水距可根据实际检测需要来调整。
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