[发明专利]半导体装置和设备有效

专利信息
申请号: 202011049822.0 申请日: 2020-09-29
公开(公告)号: CN112635501B 公开(公告)日: 2023-08-15
发明(设计)人: 小川俊之 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 代理人: 迟军
地址: 日本东京都*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及半导体装置和设备。半导体装置包括彼此堆叠的第一和第二半导体部件。第一部件包括第一绝缘层和多个第一金属焊盘。第二部件包括第二绝缘层和多个第二金属焊盘。多个第一金属焊盘中的各个和多个第二金属焊盘中的各个彼此接合以形成多个接合部中的各个。沿半导体装置的边缘并穿过第一绝缘层和第二绝缘层之间的接合面的第一开口和第二开口形成在半导体装置中。多个接合部的第一开口和第二开口之间的第一接合部布置在不同的位置。
搜索关键词: 半导体 装置 设备
【主权项】:
暂无信息
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