[发明专利]一种TFT阵列基板及其制作方法在审
申请号: | 202011001924.5 | 申请日: | 2020-09-22 |
公开(公告)号: | CN112103244A | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 宋安鑫;李元行;韩正宇 | 申请(专利权)人: | 福建华佳彩有限公司 |
主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;H01L27/12 |
代理公司: | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人: | 林祥翔;徐剑兵 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 发明公开了一种TFT阵列基板及其制作方法,基板分为第一TFT区域和第二TFT区域;第一TFT区域制作第一有源层,将第一有源层划分为沟道区域和导体化区域;沟道区域上制作第一栅极绝缘层;第一栅极绝缘层上制作第一金属层;制作隔离层,蚀刻位于第二TFT区域上的所隔离层;蚀刻隔离层,形成两个第一通孔;同时制作第一源极、第一漏极和第二金属层,第一源极、第一漏极通过两个第一通孔与有源层上的导体化区域连接;所第二金属层置于第二TFT区域上。通过TFT阵列基板定义为两个区域,减少第二TFT退火制程H离子扩散,提升第二TFT器件稳定性,同时由于隔离层仅保留在第一TFT区域,第二TFT膜层厚度减薄,透过率增大,可提升显示效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 tft 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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