[发明专利]有源区域结构与其形成方法

摘要

本发明公开了一种有源区域结构与其形成方法，有源区域结构的形成方法包含：形成多个牺牲图案位于一衬底上方，其中至少部分牺牲图案包含一水平部分以及一垂直部分，其中至少部分牺牲图案的水平部分与相邻的另一牺牲图案的水平部分在一水平方向上相互对齐，至少部分的牺牲图案的垂直部分与相邻的另一牺牲图案的垂直部分在一垂直方向上相互对齐；形成多个间隙壁图案，每一个间隙壁图案环绕在一个牺牲图案的周围。该有源区域结构的形成方法可以阻挡外围大区域的浅沟槽绝缘层对组件区域所产生的应力，防止在组件区域的周围边区域的组件单元，因为应力而损坏。边界结构可以补偿有源线之间在端部不平均的应力，也可以避免组件单元的损坏。