[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202010894778.7 申请日: 2020-08-31
公开(公告)号: CN112530933A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 冈野王俊 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/94
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供一种抑制半导体基板的面积增加的半导体装置。有关实施方式的半导体装置1具有半导体基板(10)、第一半导体层(12)、第一导电体(13)、第一电源线(PW)、第二电源线(GW)和电路(3)。半导体基板(10)具有第一面、与第一面对置的第二面、以及设置于第一面和第二面之间的第三面。第一半导体层(12)从第三面沿着第一面进行设置。第一导电体(13)设置于第一半导体层(12)上。第一电源线(PW)与第一导电体(13)电连接。第二电源线(GW)与半导体基板(10)电连接。电路(3)设置于半导体基板(10),并与第一电源线(PW)及第二电源线(GW)连接。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
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