[发明专利]一种可平动和转动的激光溅射离子源在审
| 申请号： | 202010633272.0 | 申请日： | 2020-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN111739786A | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 韩昌财;刘洪涛;费泽杰;王永天;董常武;洪静 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海应用物理研究所 |
| 主分类号： | H01J49/16 | 分类号： | H01J49/16 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 韩雪梅 |
| 地址： | 201800 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可平动和转动的激光溅射离子源，包括转动机构、平移机构、靶头和反应源，反应源设置于底座上，靶头设置于转动机构上，转动机构设置于平移机构上，平移机构设置于固定架上，靶头上设置有靶片，靶片与反应源的离子通道相接触。本发明的装置结构设计新颖、紧凑，实现靶片的转动转动和平动，能够对靶片材料进行充分的利用，避免了靶片材料的浪费，降低了成本投入，双进气孔增大了进气量，提高离子冷却速度，可以产生种类更加丰富的离子团簇。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平动 转动 激光 溅射 离子源 | ||
【主权项】：
暂无信息
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