[发明专利]一种可平动和转动的激光溅射离子源

权利要求书

1.一种可平动和转动的激光溅射离子源，其特征在于：包括转动机构、平移机构、靶头和反应源，所述反应源设置于底座上，所述靶头设置于所述转动机构上，所述转动机构设置于所述平移机构上，所述平移机构设置于固定架上，所述靶头上设置有靶片，所述靶片与所述反应源的离子通道相接触。

2.根据权利要求1所述的可平动和转动的激光溅射离子源，其特征在于：所述转动机构包括步进电机和传动杆，所述步进电机与所述传动杆通过联轴器连接，所述传动杆穿过所述固定架与所述靶头连接。

3.根据权利要求2所述的可平动和转动的激光溅射离子源，其特征在于：所述靶头与所述传动杆之间设置弹簧，所述步进电机与一控制器电连接，所述控制器能够控制所述步进电机的转速和加速度。

4.根据权利要求2所述的可平动和转动的激光溅射离子源，其特征在于：所述平移机构包括涡轮、蜗杆、螺柱和平移块，所述平移块上设置有凹槽，所述涡轮位于所述凹槽内且设置于所述螺柱上，所述蜗杆设置于所述传动杆上，所述涡轮与所述蜗杆相匹配，所述螺柱贯穿所述平移块，所述螺柱的两端分别与所述固定架螺纹连接。

5.根据权利要求4所述的可平动和转动的激光溅射离子源，其特征在于：所述平移块上对称设置有四根滑杆，所述滑杆滑动设置于所述固定架上。

6.根据权利要求4所述的可平动和转动的激光溅射离子源，其特征在于：所述螺柱为双头螺纹杆，所述双头螺纹杆的两端设置有限位挡板。

7.根据权利要求4所述的可平动和转动的激光溅射离子源，其特征在于：所述固定架上设置有腰型孔，所述腰型孔的两端设置限位开关，所述限位开关与所述步进电机电连接。

8.根据权利要求1所述的可平动和转动的激光溅射离子源，其特征在于：所述反应源上设置有相互连通的离子通道和两个进气通道，所述离子通道的一端与所述靶片相接触，所述离子通道的另一端设置有锥形喷嘴，所述锥形喷嘴用于与激光器射出的激光束相匹配，所述进气通道通过电磁脉冲阀与气瓶连接。