[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202010615321.8 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN111725242B 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 陈亮;高锦成;钱海蛟;赵立星;汪涛;胡志强;刘泽旭 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1343
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 胡萌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开的实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,通过保护图案阻挡氢原子由间隔区域侵入有源层,避免有源层出现负偏压温度光照阈值电压漂移恶化及导体化的现象,优化了薄膜晶体管的特性。阵列基板包括衬底、栅极、有源层、源极、漏极、第一钝化层、保护图案和像素电极。其中,沿平行于衬底的方向,源极与漏极之间间隔设置且具有间隔区域。源极和漏极分别与有源层耦接。保护图案和像素电极材料相同且同层设置。像素电极与源极或漏极耦接。保护图案在衬底上的正投影,覆盖间隔区域在衬底上的正投影。保护图案可阻挡氢原子由间隔区域侵入有源层。上述阵列基板应用于显示装置中,以使显示装置显示画面。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
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