[发明专利]掩模版传送装置、掩模版处理设备及掩模版传送方法在审

专利信息
申请号: 202010597449.6 申请日: 2020-06-28
公开(公告)号: CN111908124A 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 梁贤石;金成昱;金帅炯;贺晓彬;刘强;杨涛;李俊峰;王文武 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
主分类号: B65G49/06 分类号: B65G49/06
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 郎志涛
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请涉及一种掩模版传送装置、掩模版处理设备及掩模版传送方法。其中,掩模版传送装置包括:拾取主体,所述拾取主体的下表面为与所述掩模版相对应的拾取面;第一磁性部,所述第一磁性部形成在所述拾取面上,所述第一磁性部与形成在所述掩模版的上表面上的第二磁性部对应设置,所述第一磁性部的磁极与所述第二磁性部的磁极相反;支撑件,所述支撑件设置在所述拾取面上,所述支撑件为多个且分散布置,以使所述掩模版的上表面与所述拾取面之间保持有间距。
搜索关键词: 模版 传送 装置 处理 设备 方法
【主权项】:
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