[发明专利]掩模版传送装置、掩模版处理设备及掩模版传送方法

权利要求书

1.一种掩模版传送装置，其特征在于，包括：

拾取主体，所述拾取主体的下表面为与所述掩模版相对应的拾取面；

第一磁性部，所述第一磁性部形成在所述拾取面上，所述第一磁性部与形成在所述掩模版的上表面上的第二磁性部对应设置，所述第一磁性部的磁极与所述第二磁性部的磁极相反；

支撑件，所述支撑件设置在所述拾取面上，所述支撑件为多个且分散布置，其作用是保证当磁场过强时掩模版的上表面与所述拾取面之间保持有间距。

2.根据权利要求1所述的掩模版传送装置，其特征在于，所述第一磁性部由埋设在所述拾取主体的底部的电磁体所形成。

3.根据权利要求2所述的掩模版传送装置，其特征在于，所述第一磁性部的数量为四个，每一第一磁性部对应所述掩模版的一个边缘区域设置。

4.根据权利要求1所述的掩模版传送装置，其特征在于，所述支撑件为四个，四个所述支撑件分别对应所述掩模版的四个拐角部位设置。

5.根据权利要求1所述的掩模版传送装置，其特征在于，所述支撑件由铁氟龙材料制成。

6.根据权利要求1所述的掩模版传送装置，其特征在于，所述掩模版传送装置还包括安装于所述拾取主体上的保护机构，所述保护机构包括竖直部和水平承托部，所述水平承托部设置在所述竖直部的底部。

7.根据权利要求6所述的掩模版传送装置，其特征在于，所述保护机构为两个且相对设置在所述拾取主体的两侧壁上。

8.根据权利要求6所述的掩模版传送装置，其特征在于，所述水平承托部为可沿水平方向进行伸缩的第一伸缩臂。

9.根据权利要求6所述的掩模版传送装置，其特征在于，所述竖直部为可沿竖直方向进行伸缩的第二伸缩臂。

10.一种掩模版处理设备，其特征在于，所述掩模版处理设备具有根据权利要求1至9中任一项所述的掩模版传送装置。

11.一种掩模版传送方法，基于根据权利要求1至9中任一项所述的掩模版传送装置而实施，其特征在于，所述方法包括：

将所述拾取主体移动至所述掩模版的上方，并且使第一磁性部与所述掩模版上的第二磁性部相对；

使所述拾取主体与所述掩模版相互靠近，利用第一磁性部和所述第二磁性部之间的磁力使所述掩模版吸附于所述拾取主体上，其中，吸附在所述拾取主体上的所述掩模版在所述支撑件的作用下与所述拾取面保持间距；

利用所述拾取主体对所述掩模版进行传送。