[发明专利]一种改进多腔室设备工艺偏差的装置及方法在审
| 申请号： | 202010563956.8 | 申请日： | 2020-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN113823545A | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 周仁;侯彬;荒见淳一;柴智;安超 | 申请（专利权）人： | 拓荆科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人： | 甄玉荃 |
| 地址： | 110179 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种改进多腔室设备工艺偏差的装置及方法，该装置设置在多腔室的反应气路上，该装置内部一端采用锥面结构，另一端采用直孔结构。本发明提供的装置及方法结构/操作简单，价格便宜，合理的设置内部孔径可以达到高效的阻隔气体窜流的问题，最终降低腔室间晶圆表面膜厚差异，提高晶圆良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改进 多腔室 设备 工艺 偏差 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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