[发明专利]一种PUREX流程污溶剂的深度净化方法有效

专利信息
申请号: 202010522358.6 申请日: 2020-06-10
公开(公告)号: CN111863298B 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 柳倩;朱礼洋;杨志红;杨素亮;刘婷婷;田国新 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: G21F9/04 分类号: G21F9/04;G21F9/06;C22B60/04;C22B60/02;C22B34/14;C22B7/00;C22B3/00
代理公司: 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 代理人: 田明;周敏毅
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于放射性废物处理技术领域,涉及一种PUREX流程污溶剂的深度净化方法。所述的净化方法包括如下可重复的和/或可替换顺序的净化步骤:(1)在所述的污溶剂中加入含戊二酰偕亚胺二肟、四甲基氢氧化铵、NaOH的溶液进行处理;(2)在所述的污溶剂中加入含绿色硼基阴离子的离子液体进行处理。利用本发明的PUREX流程污溶剂的深度净化方法,能够更好的净化PUREX流程中产生的污溶剂。
搜索关键词: 一种 purex 流程 溶剂 深度 净化 方法
【主权项】:
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