[发明专利]一种采用化学气相沉积法制备碳化锆晶须的方法在审

专利信息
申请号: 202010470273.8 申请日: 2020-05-28
公开(公告)号: CN111549378A 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 李贺军;李博;姚西媛;张雨雷;童明德 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B29/62;C30B25/00
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种采用化学气相沉积法制备碳化锆晶须的方法,利用化学气相沉积法工艺可控的优点,通过设置合适的温度、压力、前驱体输入量,搭配合适的气体流量比例,制备出形貌和尺寸优良的ZrC晶须。从所制备的形貌图3中可以看到,所得到的晶须形貌整齐,杆部为规则的四棱柱形,顶部有半球形的催化剂小液滴。晶须直径约为1~2μm,长度约为10~50μm。同时该方法借助气体绕镀性好的优势,所获得的ZrC晶须分布均匀,产量大。由图2可看出,所得的晶须生长密集,且均匀分布在碳碳基体的表面。同时,晶须制备所需温度低,便于生产制造。
搜索关键词: 一种 采用 化学 沉积 法制 碳化 锆晶须 方法
【主权项】:
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