[发明专利]一种采用化学气相沉积法制备碳化锆晶须的方法在审
申请号: | 202010470273.8 | 申请日: | 2020-05-28 |
公开(公告)号: | CN111549378A | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 李贺军;李博;姚西媛;张雨雷;童明德 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | C30B29/36 | 分类号: | C30B29/36;C30B29/62;C30B25/00 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 王鲜凯 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种采用化学气相沉积法制备碳化锆晶须的方法,利用化学气相沉积法工艺可控的优点,通过设置合适的温度、压力、前驱体输入量,搭配合适的气体流量比例,制备出形貌和尺寸优良的ZrC晶须。从所制备的形貌图3中可以看到,所得到的晶须形貌整齐,杆部为规则的四棱柱形,顶部有半球形的催化剂小液滴。晶须直径约为1~2μm,长度约为10~50μm。同时该方法借助气体绕镀性好的优势,所获得的ZrC晶须分布均匀,产量大。由图2可看出,所得的晶须生长密集,且均匀分布在碳碳基体的表面。同时,晶须制备所需温度低,便于生产制造。 | ||
搜索关键词: | 一种 采用 化学 沉积 法制 碳化 锆晶须 方法 | ||
【主权项】:
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