[发明专利]光致抗蚀剂图案修整组合物以及图案形成方法

摘要

光致抗蚀剂图案修整组合物包含聚合物、芳香族磺酸和基于有机溶剂的体系，其中所述芳香族磺酸具有通式(I)：其中：Ar1表示芳香族基团；R1独立地表示卤素原子、羟基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的杂烷基、取代或未取代的碳环芳基、取代或未取代的杂环芳基、取代或未取代的烷氧基、或其组合，其中相邻的R1基团与Ar1一起任选地形成稠环结构；a表示2或更大的整数；并且b表示1或更大的整数，前提是a+b至少是3并且不大于Ar1的可用芳香族碳原子的总数，并且R1中的两个或更多个独立地是直接键合至芳香族环碳原子的氟原子或氟烷基。